在日前召开的北京市科学技术奖励大会暨2017年全国科技创新中心建设工作会议上，180项科研成果荣获2016年度北京市科学技术奖。电控所属北方华创科技集团股份有限公司的两项成果榜上有名，分别是：“22纳米集成电路核心工艺技术及应用”获得一等奖：“12英寸28nm金属硬掩膜物理气相沉积设备研发及产业化”获得三等奖，为发展首都科技事业、促进首都经济社会发展做出了积极贡献。

“22纳米集成电路核心工艺技术及应用”项目是北方华创与中科院微电子所等单位共同完成的。该成果在国家科技重大专项支持下开展技术攻关，突破了国外先进半导体公司在相关领域的技术限制，研发了创新的工艺和技术，有力提升了国内集成电路制造及装备企业高端装备的技术产品水平。由北方华创等单位共同开发的高端国产工艺装备，在武汉新芯、中芯国际等国产集成电路制造企业开展了核心技术的验证及推广应用。

“12英寸28nm金属硬掩膜物理气相沉积设备研发及产业化”项目是北方华创自主创新的研发成果，是通过高通认证的工艺基线机台，是中芯国际该工序唯一机台，该成果具备完全知识产权。该设备采取了先进的设计，有效满足了相关技术要求、提高了技术性能；通过自主研发的软件控制系统，实现了工艺和传输全自动化控制；通过独特的工艺整合和调控技术，提升了设备综合性能。该项目降低了跨技术代产品开发难度，促进了产业化进程，实现了我国高端集成电路PVD设备零的突破和技术跨越，打破了国外的相关技术垄断，已实现销售7台，量产25万片，并成功进入了国际主流客户，有效支撑了中国集成电路产业的发展。