“2019集成电路产业链协同创新发展交流会暨集成电路产业技术创新联盟大会”于2月23日召开。会上，集成电路产业技术创新联盟组织颁发了第二届集成电路产业技术创新奖，对在产业技术创新、成果产业化推进、产业链合作等方面取得突出成绩的团队和个人进行了表彰。

北方华创荣获三项奖励：公司副董事长耿锦启荣获“产业创新突出贡献奖”；12英寸双脉冲刻蚀机NMC612D开发团队被授予“技术创新奖”；创硅外延CVD设备研发团队被授予“成果产业化奖”。

北方华创副董事长耿锦启，始终坚持自主创新的企业发展战略，并把国际化高端人才引进视作企业可持续发展的根基。他率领的团队完成了多项集成电路装备产品产业化，也拉动了国产零部件产业链的快速发展。

12英寸双脉冲刻蚀机NMC612D产品开发团队，在产品研发过程中突破了脉冲射频等多项关键技术，这项技术适用于14纳米到10纳米技术代，广泛应用于FinFET以及3D NAND和DRAM等多种硅刻蚀工艺。目前，NMC612D刻蚀机已在芯片产线实现量产应用。

硅外延CVD设备研发团队，自2012年成立以来，成功开发了多片式和单片式两款硅外延CVD设备，突破了硅外延高温加热控制、气流场控制等多项关键技术，申请专利七十余项。目前，北方华创已为多家硅外延企业批量提供成熟的硅外延设备和工艺技术，得到行业客户的广泛认可和好评。