日前，2021年度北京市科学技术奖揭晓，由北京电控提名的两项技术创新成果——北方华创“12英寸先进集成电路制程金属化薄膜沉积设备研发及产业化”、京东方“基于超维场技术的高刷新率显示技术研发与产业化”均荣获2021年度北京市科学技术进步奖一等奖。
“12英寸先进集成电路制程金属化薄膜沉积设备研发及产业化”项目由北京北方华创微电子装备有限公司联合中芯北方集成电路制造（北京）有限公司、北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司完成，该项目突破了先进集成电路制程设备的多项关键技术，成功完成制程设备研制，并导入量产，实现批量销售。
“基于超维场技术的高刷新率显示技术研发与产业化”项目由京东方科技集团股份有限公司及旗下北京京东方显示技术有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、福州京东方光电科技有限公司完成，该项目开发出具有自主知识产权的高刷新率显示技术，对满足高端市场需求、促进先进显示技术发展发挥了重要作用。
这两项成果集中展现了北京电控大力推动科技创新取得的突出成就。近年来，北京电控坚持“科技引领、创新驱动”发展理念，不断强化科技创新在发展全局中的核心作用，大力加强和深化科技创新工作，建设高水平科技创新平台，持续保持高强度研发投入，积极开展核心技术攻关，不断深化产学研合作和技术创新管理，取得了一批具有国际先进水平、填补国内空白的标志性创新成果，有力支撑了产业规模和效益快速增长，也为国家电子信息产业发展做出了积极贡献。北京电控将再接再厉，坚持“四个面向”，着力攻克关键核心技术，推动科技成果转化应用，为北京国际科技创新中心建设作出新的更大贡献。
